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J-GLOBAL ID：200903020732635161
電解エツチング方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
三浦 進二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991276283
Publication number (International publication number)：1993093300
Application date： Sep. 30, 1991
Publication date： Apr. 16, 1993
Summary：
【要約】【目的】 実際的な工業的微細加工技術として使用できる電解エッチング方法を提供する。【構成】 対極としてのプローブ電極を先端開口を有するキャピラリー中に挿入し、この先端開口の周辺面と作動極としての加工対象固体表面との間に小さなギャップを置き、該先端開口を通して電解液を流動させつつ電解エッチングを行う。【効果】 キャピラリー内に電解反応生成物が蓄積・析出すること無く、安定に電解エッチングを続けることができる。
Claim (excerpt)：
加工対象としての固体表面を作動極とし、開口先端を有するキャピラリー中に少なくともその先端が挿入されたプローブ状電極を対極として使用し、前記キャピラリーの開口先端を通して電解液を流動させつつ行うことを特徴とする電解エッチング方法。
IPC (2)：
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