処理装置および処理方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩原康司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996071382
Publication number (International publication number)：1997246231
Application date： Mar. 01, 1996
Publication date： Sep. 19, 1997
Summary：

【要約】【課題】処理槽18内にIPA液の如き処理液の蒸気を導入しながら被処理体Wを処理する際に、その処理時間を短縮化する。【解決手段】処理液の蒸気を処理槽18内に導入して処理槽18内に収納した被処理体Wを処理するに際し、処理槽18内を排気して減圧状態とし、被処理体Wの表面に付着した処理液の蒸気圧を相対的に高めて、乾燥を早める。

Claim (excerpt)：

処理液の蒸気を処理槽内に導入して処理槽内に収納した被処理体を処理する処理装置において、処理槽内を排気する排気手段を設けたことを特徴とする処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/304 361 , H01L 21/304 351

FI (2)：

H01L 21/304 361 V , H01L 21/304 351 V

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

基板の洗浄・乾燥処理方法並びにその処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-140086 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
基板の表面処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-294766 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
特開平4-354129

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