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J-GLOBAL ID：200903020739960858

プラズマ処理装置

Inventor： 大見 忠弘 ,  平山 昌樹 ,  須川 成利 ,  後藤 哲也 ,  本郷 俊明
Applicant, Patent owner： 大見 忠弘 ,  東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001094274
Publication number (International publication number)：2002299331
Application date： Mar. 28, 2001
Publication date： Oct. 11, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 ラジアルラインスロットアンテナを有するマイクロ波プラズマ処理装置において、異常放電を抑制し、マイクロ波プラズマの励起効率を向上させる。【解決手段】 ラジアルラインスロットアンテナ20と同軸導波管21との接続部において、同軸導波管中の給電線21Bの先端部を、放射面を構成するスロット板16から離間させる。

Claim (excerpt)：

外壁により画成され、被処理基板を保持する保持台を備えた処理容器と、前記処理容器に結合された排気系と、前記処理容器中にプラズマガスを供給するプラズマガス供給部と、前記処理容器上に、前記プラズマガス供給部に対応して設けられ、同軸導波管により給電されるマイクロ波アンテナと、前記マイクロ波アンテナに前記同軸導波管を介して電気的に結合されたマイクロ波電源とよりなり、前記マイクロ波アンテナはマイクロ波の放射面を形成する第1の外表面と、前記第1の外表面に対向する第2の外表面とにより画成され、前記同軸導波管を構成する外側導波管は前記第2の外表面に接続され、前記同軸導波管を構成する中心導体は、先端部が前記第1の外表面から離間し、前記第1の外表面に対して容量結合することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/511 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (5)：

H01L 21/31 C ,  C23C 16/511 ,  C23F 4/00 A ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 B

F-Term (31)：

4K030FA01 ,  4K030KA30 ,  4K030KA47 ,  4K057DA16 ,  4K057DB06 ,  4K057DD01 ,  4K057DE01 ,  4K057DE06 ,  4K057DM03 ,  4K057DM29 ,  4K057DM37 ,  4K057DN01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB32 ,  5F004BD04 ,  5F004CA02 ,  5F004DA00 ,  5F045AA09 ,  5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AB34 ,  5F045BB20 ,  5F045DP03 ,  5F045EB03 ,  5F045EC05 ,  5F045EF05 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03