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J-GLOBAL ID:200903020768847963

全自動スペーサー散布装置システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992209378
Publication number (International publication number):1994194673
Application date: Jun. 26, 1992
Publication date: Jul. 15, 1994
Summary:
【要約】[目 的]液晶基板の製造工程の中で、スペーサーの散布工程に使用されるスペーサー散布装置システムである。この工程は、従来品質が不安定のため、製品歩留りを向上できなかった。本発明は、その問題を解決するため識別の自動化を図った全自動スペーサー散布装置システムである。[構 成] 入り口側に挿入機(3)、出口側に払出機(4)を設けた散布機(1)とNGバッファー(5)を設けたスペーサーカウンター(2)を連結して、散布機(1)で散布されたワークをスペーサーカウンター(2)で画像処理システムにより自動的に散布状態を検査し、そのデータを統計処理をしてその結果を信号出力(6)と信号出力(7)にして取り出す。その結果、信号出力(6)は散布条件の自動調整に利用し、信号出力(7)はワークの良否を区分してNGバッファー(5)で分類収納する。
Claim (excerpt):
【請求項 1】スペーサー散布機(1)は、スペーサーカウンター(2)からの信号により、エアー量、エアー圧、循環式ノズルによる散布時間、スペーサーと溶液との混合比、パージ時間・・・等の散布条件を事前に組み込んだプログラムにより動作させる全自動スペーサー散布装置システム。【請求項 2】スペーサーカウンター(2)によりワーク上の複数個所の散布状態を感知して、信号を請求項1記載の散市条件のコントロールを行う全自動スペーサー散布装置システム。【請求項 3】スペーサーカウンター(2)により、ワーク上の散布状態を感知して良否の信号出力をNGバッファー(5)に送り、ワークを分類収納する全自動スペーサー散布装置システム。
IPC (2):
G02F 1/1339 500 ,  G02F 1/13 101
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平4-080716
  • 特開昭62-238531

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