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J-GLOBAL ID：200903020808437046

反射型マスク検査装置および反射型マスク検査方法

Inventor： 星野 栄一
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 服部 毅巖
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000260098
Publication number (International publication number)：2002072448
Application date： Aug. 30, 2000
Publication date： Mar. 12, 2002
Summary：

【要約】【課題】 反射型マスクの吸収パターンの底部から突出したバッファ膜の多寡を簡易に判定する。【解決手段】 レーザ光源20から射出された単色のコヒーレント光は、フィルタ22、ハーフミラー23、λ/4偏光板24、および、対物レンズ25を介して検査対象であるマスク26に照射される。マスク26によって反射された光は、ハーフミラー23で反射され、リレーレンズ27を経て撮像素子28に入射される。撮像素子28は、入射光を画像信号に変換して出力する。画像処理部29は、画像信号を入力し、マスク26の反射部からの反射光を基準として反射強度データを求め、その反射強度データの変曲点における反射強度が、所定の基準値を下回る場合には、バッファ膜の突出量が多いとして不良であると判定する。

Claim (excerpt)：

反射型マスクパターンのエッチング形状を検査する反射型マスク検査装置において、特定波長のコヒーレント光を照射する光源と、前記光源からのコヒーレント光を前記反射型マスクの所定の領域に集光するとともに、前記反射型マスクからの反射光を抽出する光学系と、前記光学系によって抽出された前記反射型マスクからの反射光を、対応する画像信号に変換する変換手段と、前記変換手段によって得られた画像信号から、検査対象となる領域の画像を抽出する抽出手段と、前記抽出手段によって抽出された領域の画像の濃度変化を数値化し、変化率が極大となる部位における濃度値である極大濃度値を取得する取得手段と、前記取得手段によって取得された極大濃度値と、予め定められた基準濃度値とを比較し、マスクパターンのエッチング形状の良否を判定する判定手段と、を有することを特徴とする反射型マスク検査装置。

F-Term (3)：

2H095BA07 ,  2H095BD03 ,  2H095BD26