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J-GLOBAL ID：200903020859932947

ガス浄化装置

Inventor： 大石 強
Applicant, Patent owner： 有限会社環研
Agent (1)： 西教 圭一郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999202345
Publication number (International publication number)：2001025631
Application date： Jul. 15, 1999
Publication date： Jan. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】 塵埃および臭気成分および有害成分を含む浄化されるべきガスによるダクトなどの汚染を防ぐ。【解決手段】 ハウジング1の内部空間を仕切板3によって下方の第1室4と上方の第2室5とに仕切り、第1室4に、浄化されるべきガスを供給する。仕切板3には、複数の筒状のバグフィルタなどのようなフィルタ17の上部が取外し可能に設けられ、塵埃を除去する。フィルタ17の上部には、プラズマ発生手段21が直接に取外し可能に取付けられ、塵埃が除去されたガスは、ダクトなどを介することなく直接にプラズマ雰囲気22に導かれて、臭気成分および有害成分が分解除去される。

Claim (excerpt)：

上下に延びる筒状のフィルタの上部に、プラズマ発生手段を直接に配置し、フィルタによる浄化後のガス中に含まれる臭気成分および有害成分を、プラズマ雰囲気中で直ちに分解することを特徴とするガス浄化装置。

IPC (8)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/56 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/70 ,  F01N 3/02 301 ,  F01N 3/08 ,  H05H 1/24

FI (7)：

B01D 53/34 116 Z ,  F01N 3/02 301 F ,  F01N 3/08 C ,  H05H 1/24 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 129 C ,  B01D 53/34 134 E

F-Term (16)：

4D002AA02 ,  4D002AA12 ,  4D002AA21 ,  4D002AB02 ,  4D002AC10 ,  4D002BA07 ,  4D002BA14 ,  4D002CA13 ,  4D002CA20 ,  4D002EA01 ,  4D002EA13 ,  4D002GA01 ,  4D002GA02 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 排ガス中に含まれるダイオキシン類、ダスト、塩化水素(HCl)、窒素酸化物(NOx)及び硫黄酸化物(SOx)を同時に一括低減除去するろ過式集塵装置(バグフィルター)
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-204259   Applicant：コットレル工業株式会社
• 浄化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-358165   Applicant：オリエンタル機電株式会社
• 集塵装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-251881   Applicant：理熱工業株式会社