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J-GLOBAL ID:200903020882315742

ベーキング方法とホットプレートオーブン

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 森本 義弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998231059
Publication number (International publication number):2000068178
Application date: Aug. 18, 1998
Publication date: Mar. 03, 2000
Summary:
【要約】【課題】 被処理基板の熱処理時において、剥離帯電による静電気の発生を低減するとともに、熱処理時の被処理基板の温度ムラを防止するベーキング方法とホットプレートオーブンを提供することを目的とする。【解決手段】 本発明のベーキング方法は、TFTアレイ基板1をホットプレートオーブンのホットプレート2に支持体8を介して設置するとともに、TFTアレイ基板1の温度が均一になるよう前記ホットプレートオーブンの炉壁3の少なくとも一部を加熱してベーキングするものである。
Claim (excerpt):
被処理基板をホットプレートオーブンの加熱プレートに支持体を介して設置するとともに、被処理基板の温度が均一になるよう前記ホットプレートオーブンの炉壁の少なくとも一部を加熱してベーキングするベーキング方法。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336
FI (3):
H01L 21/30 566 ,  H01L 29/78 623 A ,  H01L 29/78 627 F
F-Term (1):
5F046KA04

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