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J-GLOBAL ID：200903020883052141

半導体基板の洗浄液

Inventor： 杉原 康夫 ,  田中 一成 ,  佐久間 郁江
Applicant, Patent owner： 三菱瓦斯化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992008702
Publication number (International publication number)：1993198546
Application date： Jan. 21, 1992
Publication date： Aug. 06, 1993
Summary：

【要約】【目的】 半導体基板を過酸化水素系洗浄液で洗浄する際の金属不純物及び微粒子の基板表面への付着を防止する。【構成】 酸性もしくは塩基性の過酸化水素水溶液からなる洗浄液にポリカルボン酸またはそのアンモニウム塩または有機アミン塩を添加する。【効果】 洗浄液が金属不純物および微粒子により汚染されても、基板表面への付着が抑制されるので、基板より作製した半導体素子の素子特性が安定化する。

Claim (excerpt)：

ポリカルボン酸またはそのアンモニウム塩または有機アミン塩と過酸化水素を含む酸性もしくは塩基性の半導体基板洗浄液。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平4-007830