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J-GLOBAL ID：200903020905757748

ネガ型レジスト組成物

Inventor： 金子 文武 ,  藤村 悟史 ,  宮入 美和 ,  立川 俊和 ,  小林 政一
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998260373
Publication number (International publication number)：2000089454
Application date： Sep. 14, 1998
Publication date： Mar. 31, 2000
Summary：

【要約】【課題】 0.20μm以下の微細なレジストパターン形成において、感度、解像性に優れ、しかも良好なパターン断面形状を有し、かつ近接効果の少ないレジストパターンを形成しうるネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂、(A)炭素数1〜2のアルキルスルホニルオキシイミドと、(B)炭素数3〜6のアルキルスルホニルオキシイミドと、(C)炭素数7〜9のアルキルスルホニルオキシイミドとの混合物からなる酸発生剤及び架橋剤を有機溶剤に溶解してネガ型レジスト組成物とする。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、架橋剤及び有機溶剤を含む化学増幅型ネガ型レジスト組成物において、酸発生剤が、(A)N位に炭素数1〜2のアルキルスルホニルオキシ基又はハロゲン化アルキルスルホニルオキシ基をもつ環状イミドと、(B)N位に炭素数3〜6のアルキルスルホニルオキシ基又はハロゲン化アルキルスルホニルオキシ基をもつ環状イミドと(C)N位に炭素数7〜9のアルキルスルホニルオキシ基又はハロゲン化アルキルスルホニルオキシ基をもつ環状イミドとからなり、(A)に対する(B)及び(C)の割合がそれぞれ重量比で1:0.1ないし1:10の範囲にある混合環状イミドであることを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (19)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB52 ,  2H025CC03 ,  2H025CC17 ,  2H025FA17