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J-GLOBAL ID：200903020906761145
レーザテキスチャ装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995330205
Publication number (International publication number)：1997168880
Application date： Dec. 19, 1995
Publication date： Jun. 30, 1997
Summary：
【要約】【課題】 磁気記録媒体の製造過程で行われるテキスチャ加工をレーザ光により行うレーザテキスチャ装置において、光源に半導体レーザを用いること。【解決手段】 非磁性基板を支持する基板支持手段と、2つの異なる偏波面を有する第1および第2のレーザ光を出力するレーザ光手段と、第1及び第2のレーザー光を受け、偏波合成して合成光を出力する偏波合成手段と、合成光を集光して非磁性基板、磁性層又は他の層の表面に照射する集光手段とを有するレーザテキスチャ装置。
Claim (excerpt)：
非磁性基板上に、少なくとも磁性層を有し、必要に応じて他の層を設けた磁気記録媒体の、非磁性基板、磁性層又は他の層の表面に、半導体レーザ光を集光照射しテキスチャ加工を施すためのレーザテキスチャ装置であって、前記非磁性基板を支持する基板支持手段と、2つの異なる偏波面を有する第1および第2のレーザ光を出力するレーザ光手段と、前記第1及び第2のレーザー光を受け、偏波合成して合成光を出力する偏波合成手段と、前記合成光を集光して前記非磁性基板、磁性層又は他の層の表面に照射する集光手段とを有するレーザテキスチャ装置。
IPC (2)：
FI (2)：
B23K 26/06 E
, G11B 5/84 A
