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J-GLOBAL ID：200903020980706393

液晶複合膜の製造方法及びその液晶複合膜を用いた液晶素子

Inventor： 柏木 亨 ,  高田 憲作 ,  原 浩二
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 亀井 弘勝 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993093353
Publication number (International publication number)：1994308463
Application date： Apr. 20, 1993
Publication date： Nov. 04, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 相分離法によって複合膜を形成する際、従来より安価に、しかも材料選択の制約を解消し、電気光学特性にすぐれた理想的な液晶複合膜の製造方法及びこれを用いた液晶素子を提供する。【構成】 マトリクス用高分子と、非液晶性低分子物質Aとを含む塗布液から、相分離により、高分子マトリクス10の連続した孔内に非液晶性低分子物質Aが充填された構造の複合膜1を形成する。次いで、この複合膜1中の非液晶性低分子物質Aの一部または全部を、液晶材料Bで置換する。

Claim (excerpt)：

マトリクス用高分子と、非液晶性低分子物質とを溶媒に溶解または分散させた塗布液を、一対の基材のうち一方の表面に塗布し、溶媒を蒸発させてマトリクス用高分子と非液晶性低分子物質とを相分離させ、スポンジ状構造を有する高分子マトリクスの連続した孔内に、非液晶性低分子物質が充填された構造の複合膜を形成し、次いで、液晶材料を当該複合膜上に配置し、その上からもう一方の基材を重ね合わせる工程の前に、またはその工程と同時に、複合膜中の非液晶性低分子物質を液晶材料で置換することを特徴とする液晶複合膜の製造方法。

IPC (3)：

G02F 1/1333 ,  G02F 1/13 101 ,  C08J 5/18