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J-GLOBAL ID：200903021001987626

電子ビーム描画装置

Inventor： 田畑 文夫 ,  浅井 雅文
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 平戸 哲夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000163863
Publication number (International publication number)：2001344833
Application date： Jun. 01, 2000
Publication date： Dec. 14, 2001
Summary：

【要約】【課題】光ディスク等の情報記録媒体の原盤を作製する場合に使用される電子ビーム描画装置に関し、原盤に所望のパターンを高精度で描画することができるようにする。【解決手段】回転ステージ機構14が回転駆動力を発生させないで慣性力のみで原盤13を回転させている時に原盤13に対する電子ビ-ム5による描画を行うように制御する。

Claim (excerpt)：

原盤を回転させる回転ステージ機構を有し、該回転ステージ機構によって回転させている前記原盤に電子ビームを照射してパターンを描画する電子ビーム描画装置であって、前記回転ステージ機構が回転駆動力を発生させないで慣性力のみで前記原盤を回転させている時に前記原盤に対する描画を行うように制御する制御手段を有していることを特徴とする電子ビーム描画装置。

IPC (4)：

G11B 7/26 501 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G11B 7/26 501 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 L

F-Term (9)：

2H097AB06 ,  2H097BB01 ,  2H097CA16 ,  2H097LA20 ,  5D121BA03 ,  5D121BB21 ,  5D121BB38 ,  5F056EA10 ,  5F056EA14