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J-GLOBAL ID：200903021015727244

毛髪化粧料

Inventor： 荻野 秀一
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 有賀 三幸 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991287987
Publication number (International publication number)：1993124936
Application date： Nov. 01, 1991
Publication date： May. 21, 1993
Summary：

【要約】【構成】 次の成分(a)及び(b)(a)一般式(1)で表されるシロキサン誘導体【化1】〔式中、R1 、R2 及びR3 のうち少なくとも1つは下記式 -CH2CH2CH2OCH2CH(OR6)CH2OR5 又は-CH2CH2CH2OCH(CH2OR5)CH2OR5 (R5 及びR6 の一方は水素原子を示し、他方は炭素数6〜30の直鎖、分岐鎖もしくは環状のアルキル基、アルケニル基又はヒドロキシアルキル基を示す)で表される置換基を示し、上記以外のR1 、R2 及びR3 並びにR4 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、m及びnはm+nが1〜200 となる数を示す〕(b)皮膜形成性ポリマーを含有することを特徴とする毛髪化粧料。【効果】 髪のコンディショニング効果及び整髪効果ともに優れたものである。

Claim (excerpt)：

次の成分(a)及び(b)(a)一般式(1)で表されるシロキサン誘導体【化1】〔式中、R1 、R2 及びR3 のうち少なくとも1つは下記式 -CH2CH2CH2OCH2CH(OR6)CH2OR5 又は-CH2CH2CH2OCH(CH2OR5)CH2OR5 (R5 及びR6 の一方は水素原子を示し、他方は炭素数6〜30の直鎖、分岐鎖もしくは環状のアルキル基、アルケニル基又はヒドロキシアルキル基を示す)で表される置換基を示し、上記以外のR1 、R2 及びR3 並びにR4 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、m及びnはm+nが1〜200 となる数を示す〕(b)皮膜形成性ポリマーを含有することを特徴とする毛髪化粧料。