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J-GLOBAL ID:200903021139018330

フォトレジスト組成物及びこれを利用したカラーフィルタ基板の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 八田 幹雄 ,  奈良 泰男 ,  宇谷 勝幸 ,  藤田 健 ,  都祭 正則 ,  長谷川 俊弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007175593
Publication number (International publication number):2008015530
Application date: Jul. 03, 2007
Publication date: Jan. 24, 2008
Summary:
【課題】フォトレジスト組成物及びこれを利用したカラーフィルタ基板の製造方法が開示される。【解決手段】フォトレジスト組成物は、アントラキノン系染料及び顔料を含む着色剤、バインダー樹脂、架橋剤、光重合開始剤、及び溶媒を含む。前記フォトレジスト組成物を利用して形成されたカラーフィルタは高い光透過率を有する。従って、液晶表示装置のコントラストを改善することができる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
アントラキノン系染料及び顔料を含む着色剤と、 バインダー樹脂と、 架橋剤と、 光重合開始剤と、 溶媒と、を含むフォトレジスト組成物。
IPC (4):
G03F 7/004 ,  G03F 7/032 ,  G02B 5/20 ,  G02B 5/22
FI (5):
G03F7/004 505 ,  G03F7/032 ,  G03F7/004 501 ,  G02B5/20 101 ,  G02B5/22
F-Term (22):
2H025AB13 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC81 ,  2H025CA01 ,  2H025CA28 ,  2H025CB14 ,  2H025CB28 ,  2H025CB52 ,  2H025CC03 ,  2H025CC12 ,  2H025CC13 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H048BA02 ,  2H048BA48 ,  2H048BB02 ,  2H048BB37 ,  2H048BB42 ,  2H048CA04 ,  2H048CA14 ,  2H048CA19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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