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J-GLOBAL ID：200903021156610731

オゾン水洗浄方法及び装置

Inventor： 鈴木 克己 ,  中島 俊貴 ,  砂川 強志
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999257369
Publication number (International publication number)：2001079502
Application date： Sep. 10, 1999
Publication date： Mar. 27, 2001
Summary：

【要約】【課題】さまざまな問題を有する半導体RCA洗浄や工業洗浄を代替して、低コスト、省エネルギーで環境にやさしい洗浄方法を提供する。【解決手段】オゾンガス4を1気圧より高い圧力で純水に溶解させてオゾン水6を製造し、圧力を保持した状態でこのオゾン水6を密閉洗浄室9に導き、被洗浄物10を洗浄するようにした。

Claim (excerpt)：

オゾンガスを1気圧より高い圧力で純水に溶解させてオゾン水を製造し、圧力を保持した状態で前記オゾン水を密閉洗浄室に導き、被洗浄物を洗浄することを特徴とするオゾン水洗浄方法。

IPC (4)：

B08B 3/08 ,  B01F 1/00 ,  C02F 1/78 ,  H01L 21/304 647

FI (4)：

B08B 3/08 Z ,  B01F 1/00 A ,  C02F 1/78 ,  H01L 21/304 647 Z

F-Term (16)：

3B201AA03 ,  3B201AB44 ,  3B201BB02 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201CB01 ,  3B201CD33 ,  4D050AB11 ,  4D050BB02 ,  4D050BC02 ,  4D050BD02 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4G035AA01 ,  4G035AE13