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J-GLOBAL ID：200903021206870861

絶縁膜形成材料及び絶縁膜

Inventor：
長野 慎哉

About 長野 慎哉

, 
橋本 治一郎

About 橋本 治一郎

, 
堤 聖晴

About 堤 聖晴

, 
舩木 克典

About 舩木 克典


Applicant, Patent owner：
ダイセル化学工業株式会社

About ダイセル化学工業株式会社


Agent (1)： 後藤 幸久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003325519
Publication number (International publication number)：2004307804
Application date： Sep. 18, 2003
Publication date： Nov. 04, 2004
Summary：
【課題】 高い架橋度を有するポリベンズアゾール類を構成しうる成分からなり、特に層間絶縁膜用途として必要とされる膜厚を容易に形成しうる絶縁膜形成材料及び該材料から形成される絶縁膜を提供する。【解決手段】 本発明の絶縁膜形成材料は、有機溶媒に、下記式(1)【化1】(式中、Xは水素原子、炭化水素基、又はR4を示し、R1〜R4は、同一又は異なって、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基等を示し、Y1〜Y4は、同一又は異なって、単結合又は2価の芳香族環式基を示す)で表されるアダマンタンポリカルボン酸誘導体と、下記式(2)【化2】(式中、環Zは単環または多環の芳香環を示し、R5〜R8は環Zに結合している置換基であって、同一又は異なって、保護基で保護されていてもよいアミノ基等を示す)で表される芳香族ポリアミン誘導体とを溶解して得られる重合性組成物からなることを特徴とする。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
有機溶媒に、下記式(1)
IPC (2)：
C08G73/06 ,  H01L21/312
FI (2)：
C08G73/06 ,  H01L21/312 A
F-Term (44)：
4J043PA15 ,  4J043QB17 ,  4J043QB21 ,  4J043QB24 ,  4J043QB31 ,  4J043QB32 ,  4J043QB39 ,  4J043QB40 ,  4J043QB45 ,  4J043QB48 ,  4J043RA42 ,  4J043RA52 ,  4J043RA57 ,  4J043SA06 ,  4J043SA08 ,  4J043SA46 ,  4J043SA47 ,  4J043SA71 ,  4J043SA83 ,  4J043SB01 ,  4J043TA06 ,  4J043TA13 ,  4J043TA14 ,  4J043TA31 ,  4J043TA33 ,  4J043TA58 ,  4J043TA61 ,  4J043UA082 ,  4J043UA131 ,  4J043UB401 ,  4J043VA021 ,  4J043VA061 ,  4J043XA03 ,  4J043XA14 ,  4J043XB27 ,  4J043ZA12 ,  4J043ZA46 ,  4J043ZB11 ,  4J043ZB47 ,  4J043ZB50 ,  5F058AA03 ,  5F058AC10 ,  5F058AF04 ,  5F058AH02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (8)
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