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J-GLOBAL ID：200903021212894608
新規アクリルモノマー、新規アクリルポリマー、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998074295
Publication number (International publication number)：1999271974
Application date： Mar. 23, 1998
Publication date： Oct. 08, 1999
Summary：
【要約】【課題】 ArFエキシマレーザーに対して高い透明性を有し、かつ耐ドライエッチング耐性に優れ、安定して優れたパターン形状を与えるレジスト組成物を提供する。【解決手段】 酸発生剤と、この酸発生剤により脱離する基として少なくとも2個のノルボルナン骨格を有する脂環式炭化水素基を有する構造単位を含むポリマーとからなるレジスト組成物である。
Claim (excerpt)：
下式(1)で示されるモノマー。【化1】(式中、Rは、水素原子または炭素数1-3の置換されていてもよいアルキル基であり;R’は、炭素数1-6の置換されていてもよいアルキル基であり;Zは、記載のCと共に少なくとも2個のノルボルナン骨格を有する置換されていてもよい脂環式炭化水素基を完成するのに必要な複数個の原子を表す)
IPC (6)：
G03F 7/039 501
, C07C 69/54
, C08F 20/18
, G03F 7/027 502
, G03F 7/20 505
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, C07C 69/54 B
, C08F 20/18
, G03F 7/027 502
, G03F 7/20 505
, H01L 21/30 502 R
