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J-GLOBAL ID：200903021250243955
水中溶存ヒ素の除去方法およびシステム
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
有近 紳志郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997205049
Publication number (International publication number)：1999047763
Application date： Jul. 30, 1997
Publication date： Feb. 23, 1999
Summary：
【要約】【課題】 水中に溶存したヒ素を除去する。【解決手段】 水中溶存ヒ素の除去システム100において、ヒ素が溶存した原水(井戸水)と,pH値を6〜6.5に調整するpH調整液と,第一鉄塩と,空気とを混合し、被処理水とする。その被処理水を、濾過塔1を通過させ、処理水として取り出す。濾過塔1では、炭素系接触濾材層3の酸化触媒作用により第一鉄塩と溶存酸素の反応により生成するオキシ水酸化鉄が濾材上に被着する。そして、水中に溶存した3価のヒ素は、オキシ水酸化鉄に吸着されることにより、炭素系接触濾材層3に除去される。また、一部のヒ素は鉄と化合し、炭素系接触濾材層3に除去される。【効果】 水中に溶存した3価のヒ素を効率よく除去できる。ヒ素を含む汚泥の発生量を低減でき、汚泥処理コストを低減できる。
Claim (excerpt)：
ヒ素が溶存した原水に第一鉄塩を注入し、弱酸性とした雰囲気下で前記第一鉄塩と溶存酸素の反応により生成するオキシ水酸化鉄の酸化反応を炭素系接触濾材の触媒作用により促進すると共に、生成した前記オキシ水酸化鉄と前記ヒ素との結合を同時進行させ当該結合後のオキシ水酸化鉄を前記炭素系接触濾材に被着することを特徴とする水中溶存ヒ素の除去方法。
Patent cited by the Patent：
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