Pat
J-GLOBAL ID:200903021259841413
滅菌可能な包装用複合フイルム
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
社本 一夫 (外5名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000586511
Publication number (International publication number):2002531300
Application date: Dec. 02, 1999
Publication date: Sep. 24, 2002
Summary:
【要約】本発明は包装用複合フイルムに関する。このフイルム複合材料は90°Cを超える温度の水浴又は水蒸気中で滅菌後に水蒸気又はガスの透過を効果的に遮断し、またポリエチレン-2,6-ナフタレート(PEN)から成る共有押出し成形された層を少なくとも1側面上に有するポリエチレンテレフタレート(PET)から成るフイルムを含む。このフイルムはPENが被覆された側面の少なくとも1つの上に厚さ10〜200nmのセラミック層を有し、この層は真空中で二酸化ケイ素(SiO2)及び金属ケイ素を同時に気化することにより製造される。この層はSiOXから成り、xは0.9〜2の数である。前記複合フイルムは90°Cを超える温度の水浴又は水蒸気中で滅菌後に水蒸気又はガスの透過を十分に遮断する。
Claim (excerpt):
90°Cを超える温度の水浴又は水蒸気中で滅菌後に水蒸気又はガスの透過を遮断する優れた効果を有する包装用複合フイルムであって、実質的な構成要素として無機物質の気化により製造されるSiOXを含有する遮断層を備える包装用複合フイルムにおいて、 前記複合フイルムはポリエチレン-2,6-ナフタレート(PEN)から成る共有押出し成形された層を少なくとも1側面上に有するポリエチレンテレフタレート(PET)のフイルムを含み、このフイルムは前記PENが被覆された側面の少なくとも1つの上にSiOXから成る厚さ10〜200nmのセラミック層を有し、ここでxは0.9〜2の数であり、前記セラミック層は真空中で二酸化ケイ素(SiO2)及び金属ケイ素を同時に気化するか、又は一酸化ケイ素を気化することにより製造されることを特徴とする前記複合フイルム。
IPC (6):
B32B 9/00
, B32B 27/36
, B65D 65/40
, B65D 81/24
, C08J 7/06 CFD
, C08L 67:02
FI (6):
B32B 9/00 A
, B32B 27/36
, B65D 65/40 D
, B65D 81/24 L
, C08J 7/06 CFD Z
, C08L 67:02
F-Term (50):
3E067AB01
, 3E067BA17A
, 3E067BB14A
, 3E067BB25A
, 3E067CA06
, 3E067CA07
, 3E067CA30
, 3E067EE48
, 3E067FC01
, 3E067GC01
, 3E067GD01
, 3E067GD02
, 3E086AA01
, 3E086AB01
, 3E086BA04
, 3E086BA15
, 3E086BA24
, 3E086BA35
, 3E086BB02
, 3E086BB05
, 3E086BB15
, 3E086CA01
, 4F006AA35
, 4F006AB73
, 4F006AB74
, 4F006BA05
, 4F006CA07
, 4F006DA01
, 4F100AA20C
, 4F100AD03C
, 4F100AD03D
, 4F100AK42A
, 4F100AK42B
, 4F100AK42D
, 4F100BA03
, 4F100BA04
, 4F100BA06
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100BA10D
, 4F100BA25
, 4F100EH202
, 4F100EH662
, 4F100GB15
, 4F100GB23
, 4F100GB66
, 4F100JD02
, 4F100JD04
, 4F100YY00C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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