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J-GLOBAL ID:200903021273937490

洗浄方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 重野 剛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000343865
Publication number (International publication number):2002151459
Application date: Nov. 10, 2000
Publication date: May. 24, 2002
Summary:
【要約】【課題】 洗浄力(微粒子の除去能力)に優れ、洗浄後のシステム内の洗浄液成分の残留が少なく、短時間で効率的に洗浄することができる超純水製造システムの洗浄方法を提供する。洗浄力に優れ、短い時間で洗浄できる濾過膜の洗浄方法を提供する。【解決手段】 微細気泡を共存させた塩基性溶液で超純水製造システムの少なくとも一部を洗浄することにより、超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置と前記ユースポイントとを接続する超純水の流路からなる超純水製造システムの超純水接触面に付着した微粒子を除去する。微細気泡を共存させた塩基性溶液で濾過膜を洗浄する。
Claim (excerpt):
超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置と前記ユースポイントとを接続する超純水の流路からなる超純水製造システムの超純水接触面に付着した微粒子を除去する洗浄方法において、微細気泡を共存させた塩基性溶液で前記超純水製造システムの少なくとも一部を洗浄することを特徴とする超純水製造システムの洗浄方法。
IPC (6):
H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 647 ,  B01D 65/02 520 ,  B01D 65/06 ,  B08B 3/08 ,  B08B 9/027
FI (6):
H01L 21/304 648 K ,  H01L 21/304 647 Z ,  B01D 65/02 520 ,  B01D 65/06 ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 9/06
F-Term (28):
3B116AA13 ,  3B116AB51 ,  3B116BB62 ,  3B116BB82 ,  3B116CC01 ,  3B116CC05 ,  3B201AA13 ,  3B201AB51 ,  3B201BB62 ,  3B201BB82 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201CC01 ,  3B201CC21 ,  4D006GA06 ,  4D006KA01 ,  4D006KB04 ,  4D006KB11 ,  4D006KC14 ,  4D006KC16 ,  4D006KC20 ,  4D006KD04 ,  4D006KD17 ,  4D006KD22 ,  4D006KD30 ,  4D006PB07 ,  4D006PC02 ,  4D006PC42

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