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J-GLOBAL ID:200903021308656929

単結晶の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 藤吉 一夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997100859
Publication number (International publication number):1998287499
Application date: Apr. 04, 1997
Publication date: Oct. 27, 1998
Summary:
【要約】【課題】 開管法により、単結晶を、他の元素を含む気体中で加熱を行い、単結晶の構成元素の少なくとも一つの構成元素を他の元素で置換することにより、元の単結晶の構成元素の少なくとも一つが異なる単結晶膜を前記単結晶表面に作製する方法において、平坦で良質な膜が得られる方法を提供する。【解決手段】 元の単結晶の置換される構成元素の蒸気圧を制御しながら、単結晶の表面が荒れを起こさない範囲で予め置換を行い表面キャップ層を形成した後、所定の温度に上昇させて単結晶膜を育成する。【効果】 平坦でかつ高品質なGaN単結晶膜を形成することができる。
Claim (excerpt):
単結晶を、他の元素を含む気体中で加熱を行い、単結晶の構成元素の少なくとも一つの構成元素を他の元素で置換することにより、元の単結晶の構成元素の少なくとも一つが異なる単結晶膜を前記単結晶表面に作製する方法において、元の単結晶の置換される構成元素の蒸気圧を制御しながら、所定の温度に上昇させて単結晶膜を育成することを特徴とする単結晶の製造方法。
IPC (3):
C30B 29/38 ,  C30B 29/42 ,  H01L 21/205
FI (4):
C30B 29/38 D ,  C30B 29/38 C ,  C30B 29/42 ,  H01L 21/205

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