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J-GLOBAL ID：200903021343115957

分離膜として有用な多孔質シリカ膜及びその製造方法

Inventor： 小出 秀人 ,  吉田 利彦 ,  田村 文孝
Applicant, Patent owner： 東燃株式会社
Agent (1)： 河備 健二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996242683
Publication number (International publication number)：1998066848
Application date： Aug. 26, 1996
Publication date： Mar. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】 高い耐熱性、高いガス透過率及び高いガス選択性を兼ね備えた、クラックフリー、ピンホールフリーの、Åオーダーの孔径を有する多孔質シリカ膜及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 ラマン分析において、三員環(600±20cm-1)と四員環(490±20cm-1)を示すピークが存在し、(三員環)/(四員環)強度比が0.1〜10.0であることを特徴とする多孔質シリカ膜並びに主として下記一般式(I)で表される構造単位からなる骨格を有するポリシラザンを原料として用いるその製造方法。【化1】

Claim (excerpt)：

ラマン分析において、三員環(600±20cm-1)と四員環(490±20cm-1)を示すピークが存在し、(三員環)/(四員環)強度比が0.1〜10.0であることを特徴とする水素、ヘリウム又は水の分離膜として有用な多孔質シリカ膜。