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J-GLOBAL ID：200903021385687497

ニトロジフェニルアミンの製造法

Inventor： ヘンリー・ギーラ ,  ヴァルター・ランゲ ,  トルステン・ポール ,  アドルフ・ジッヒェネダー ,  クリストフ・シルト
Applicant, Patent owner： バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
Agent (1)： 青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000251026
Publication number (International publication number)：2001089423
Application date： Aug. 22, 2000
Publication date： Apr. 03, 2001
Summary：

【要約】【課題】 ニトロハロゲノベンゼンと芳香族アミンからニトロジフェニルアミンを高い選択率と収率で製造する方法を提供する。【解決手段】 塩基として使用前に粉砕および/または乾燥したアルカリ金属および/またはアルカリ土類金属のカルボキシレート等を使用すると共に、パラジウム触媒としてパラジウムホスフィン錯体もしくはその他のパラジウム錯体を使用することを特徴とする、塩基とパラジウム触媒の存在下においてニトロハロゲノベンゼンと芳香族アミンを反応させることによるニトロジフェニルアミンの製造法。

Claim (excerpt)：

塩基とパラジウム触媒の存在下においてニトロハロゲノベンゼンと芳香族アミンを反応させることによるニトロジフェニルアミンの製造法であって、該パラジウム触媒がパラジウムホスフィン錯体もしくはその他のパラジウム錯体を含有し、該塩基がアルカリ金属および/またはアルカリ土類金属のカルボキシレート、アルコラートおよび/または水酸化物を含有し、また、該塩基を使用前に粉砕および/または乾燥することを特徴とするニトロジフェニルアミンの製造法。

IPC (3)：

C07C209/10 ,  C07C211/56 ,  C07B 61/00 300

FI (3)：

C07C209/10 ,  C07C211/56 ,  C07B 61/00 300