Pat
J-GLOBAL ID：200903021386051928
プリント基板パターン検査装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993152540
Publication number (International publication number)：1995020061
Application date： Jun. 24, 1993
Publication date： Jan. 24, 1995
Summary：
【要約】【目的】 プリント基板パターン外観を検査する際に発生する疑似欠陥を除去し検査する。【構成】 対象パターンの2値画像を得て、スルーホールランドと配線パターンの接続部でのクリアランス(間隔)不良の疑似欠陥を除去するための除去マスクを発生し、このマスク内に発生した欠陥を除去しながら設計ルール検査を行う。2値画像を細線化回路3で細線化し、接続点抽出部4で特徴点抽出マスクにより分岐点を含むランド接続点を抽出、さらにこの点を中心としてランド領域を指定するウインドをランド領域ウインド発生部5で発生する。一方で、2値画像を反転したパターンに対して反転細線化部6で細線化を施して反転細線化画像を得る。この反転細線画像のパターンからランド領域ウインド内のパターンだけを切り出し、これを拡大してクリアランス疑似欠陥除去マスクとする。
Claim (excerpt)：
対象配線パターンを光走査してその反射光に対応するビデオ信号を出力する光電変換スキャナと、この光電変換スキャナからのビデオ信号を配線パターン部と他の部分を区別する2値化された画像データにする2値化回路と、この2値化回路より得られる2値画像データに対して配線パターン部の線幅が1画素幅となる段数まで細線化しパターンの細線画像データを出力する細線化回路と、この細線化回路で得られる細線画像データからランド接続点及び分岐点を3×3マスクにより抽出する特徴点抽出部と、このランド接続点及び分岐点を中心にあらかじめ設定されたサイズのランド接続領域を示すウインドを発生するランド接続領域ウインド発生部と、前記2値化回路より出力される2値画像上のパターン部以外の領域に対して細線化を施し反転細線画像を出力する反転細線化回路と、前記ランド接続領域ウインド発生部のウインド内の前記反転細線画像をあらかじめ設定された量だけ膨張させたクリアランス疑似欠陥除去マスクを生成する疑似欠陥除去マスク発生部と、前記2値化回路より出力される2値画像上のパターンに対し前記クリアランス疑似欠陥除去マスクの部分を除去して欠陥部を検出する検査部とを含むことを特徴とするプリント基板パターン検査装置。
IPC (7)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G01R 31/02
, G06F 17/50
, G06T 7/00
, H04N 7/18
, H05K 3/00
G06F 15/60 370 A
, G06F 15/62 405 A
Cited by examiner (1)
-
プリント基板パターン検査装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平3-285893
Applicant：日本電気株式会社
Return to Previous Page
