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J-GLOBAL ID：200903021394011986

レジスト剥離液管理装置

Inventor： 中川 俊元 ,  塚田 光三 ,  小川 修 ,  佐藤 嘉高 ,  塩津 信一郎
Applicant, Patent owner： 株式会社平間理化研究所 ,  長瀬産業株式会社
Agent (1)： 塩出 真一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994333249
Publication number (International publication number)：1995235487
Application date： Dec. 15, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】 液晶基板製造工程や半導体製造工程などにおいてレジスト剥離に用いられるレジスト剥離液の管理装置であって、レジスト剥離液品質を一定に制御し、かつ液使用量の削減、操業停止時間の減少及びコストの低減を図ることができる装置を提供する。【構成】 レジスト剥離液の溶解レジスト濃度を吸光光度計16により検出してレジスト剥離液を排出するレジスト剥離液排出手段と、レジスト剥離液の液面レベルを液面レベル計3により検出して有機溶媒とMEA等のアルカノールアミンとを補給する第一補給手段と、レジスト剥離液のMEA等のアルカノールアミン濃度を吸光光度計15により検出して有機溶媒及びMEA等のアルカノールアミンの少なくとも一方を補給する第二補給手段とを備えるように構成する。

Claim (excerpt)：

レジスト剥離液の溶解レジスト濃度を吸光光度計(16)により検出してレジスト剥離液を排出するレジスト剥離液排出手段と、レジスト剥離液の液面レベルを液面レベル計(3)により検出して有機溶媒とアルカノールアミンとを補給する第一補給手段と、レジスト剥離液のアルカノールアミン濃度を吸光光度計(15)により検出して有機溶媒及びアルカノールアミンの少なくとも一方を補給する第二補給手段とを備えたことを特徴とするレジスト剥離液管理装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/42