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J-GLOBAL ID：200903021429979520
微細パターンの印刷方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
前島 肇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994230626
Publication number (International publication number)：1996072384
Application date： Aug. 31, 1994
Publication date： Mar. 19, 1996
Summary：
【要約】【目的】 凹版の凹部にインキを充填した後、インキを被印刷体に転移させてパターンを印刷する凹版印刷方法において、インキの離型性、パターンの再現性、および耐刷性を向上させて精度の高い印刷を実現する。【構成】 凹版印刷方法において、脱有機酸型あるいは脱アルコール型で縮合硬化するシリコーンを使用して、凹版の少なくとも凹部の表面に離型性のシリコーン樹脂層を形成する。
Claim (excerpt)：
印刷画線部となるパターン凹部を設けた凹版の少なくとも凹部の表面に、凹版に接着する離型性の樹脂層を形成し、この凹版にインキを充填し、被印刷体あるいは中間介在物に転写する微細パターンの印刷方法において、脱有機酸型あるいは脱アルコール型で縮合硬化するシリコーンを使用して離型性のシリコーン樹脂層を形成することを特徴とする印刷方法。
IPC (3)：
B41M 1/10
, B41F 17/14
, B41N 1/12
