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J-GLOBAL ID：200903021488591420

真空装置及び真空装置における真空維持方法

Inventor： 安芸 祐一
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 角田 芳末 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002048447
Publication number (International publication number)：2003249187
Application date： Feb. 25, 2002
Publication date： Sep. 05, 2003
Summary：

【要約】【課題】 静圧浮上パッド19が対象物に微小隙間をもって非接触で吸着して部分的な真空状態を得る装置において、静圧浮上パッド19と対象物の相対速度が上がっても真空度が低下することなく所要の真空度を維持できるようにする。【解決手段】 静圧浮上パッド19における対象物との対向面に、対象物との相対移動による排気効果をもつ形状の排気溝40,41を形成し、この排気溝での排気効果によって真空度の低下を抑えるようにする。

Claim (excerpt)：

真空チャンバーに連結される静圧浮上パッドを有し、この静圧浮上パッドが排気手段による吸引と給気手段による気体の噴出により対象物に微小隙間をもって非接触で吸着して部分的な真空状態を得る真空装置において、上記静圧浮上パッドの上記対象物と対向する面に、上記対象物との相対移動による気体分子の境界流による排気効果をもつ形状の溝を形成したことを特徴とする真空装置。

IPC (6)：

H01J 37/30 ,  G11B 7/26 501 ,  G21K 5/00 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/18 ,  H01L 21/027

FI (6)：

H01J 37/30 Z ,  G11B 7/26 501 ,  G21K 5/00 A ,  G21K 5/04 M ,  H01J 37/18 ,  H01L 21/30 541 G

F-Term (8)：

5C033KK09 ,  5C034AA02 ,  5C034AA04 ,  5C034AA06 ,  5D121BB21 ,  5D121BB38 ,  5F056EA12 ,  5F056EA16