Pat
J-GLOBAL ID：200903021525631934
プラズマ処理の終点検出方法およびその装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994031702
Publication number (International publication number)：1994318572
Application date： Mar. 02, 1994
Publication date： Nov. 15, 1994
Summary：
【要約】【目的】本発明は、個々のプロセスや個々の被処理体に応じてその都度閾値を設定し直す必要がなく、異なるプラズマ処理条件でも正確にプラズマ処理の終点を検出することができる汎用性のある終点検出方法およびその装置を提供することを目的とする。【構成】被処理体にプラズマを用いた処理を施す際に、前記プラズマ中において特定波長を有する活性種の発光スペクトルを光検出手段により逐次検出する工程、プラズマ処理の初期所定時間内において前記発光スペクトルの発光強度の平均値および分散値を求める工程、前記初期所定時間の経過後に前記平均値と発光強度との差を演算して演算値を得る工程、並びに前記演算値と前記分散値とを比較し、前記演算値が所定の基準値を超えた時点をプラズマ処理の終点として判定する工程を具備することを特徴としている。
Claim (excerpt)：
被処理体にプラズマを用いた処理を施す際に、前記プラズマ中において特定波長を有する活性種の発光スペクトルを光検出手段により逐次検出する工程、前記処理の初期所定時間内において前記発光スペクトルの発光強度の平均値および分散値を求める工程、前記初期所定時間の経過後に前記平均値と発光強度との差を演算して演算値を得る工程、並びに前記演算値と前記分散値とを比較し、前記演算値が所定の基準値を超えた時点を前記処理の終点として判定する工程、を具備することを特徴とする終点検出方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Return to Previous Page
