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J-GLOBAL ID：200903021527545296
アクティブマトリックス基板とその製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991342786
Publication number (International publication number)：1993224233
Application date： Dec. 25, 1991
Publication date： Sep. 03, 1993
Summary：
【要約】【目的】アクティブマトリックス基板の平坦化を向上する。【構成】ガラス基板10上に広い面積で形成される画素電極3の上端を薄膜トランジスタ2の上端よりも高くする。これにより、少い領域が部分的に凹状になっているだけなので、アクティブマトリックス基板全体としては平坦性が向上する。
Claim (excerpt)：
ガラス基板上に、薄膜トランジスタと走査線および信号線と画素電極とを備え、前記画素電極を作成する領域が、少なくとも前記薄膜トランジスタ及び前記走査線および前記信号線から成る領域と同じ高さもしくはそれ以上の高さになっていることを特徴とするアクティブマトリックス基板。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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