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J-GLOBAL ID：200903021536010273

磁気ヘッド及びその製造方法

Inventor： 中田 正宏 ,  的野 直人 ,  野口 仁志 ,  小林 伸二 ,  柳井 孝 ,  清水 良昭
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社
Agent (1)： 丸山 敏之 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993256784
Publication number (International publication number)：1995110912
Application date： Oct. 14, 1993
Publication date： Apr. 25, 1995
Summary：

【要約】【目的】 1或いは複数の非磁性絶縁層が介在した積層構造の磁気ヘッドにおいて、非磁性絶縁層が剥離することを防止し、然も基板ウエハのソリを抑制する。【構成】 磁気ヘッドを構成する非磁性絶縁層の内、少なくとも1層は、Krを含有する二酸化シリコン膜から形成されている。該二酸化シリコン膜の製造工程にはRFスパッタ装置を採用し、真空槽1内にKrを含むスパッタガスGを導入して、二酸化シリコンのターゲット13からスパッタリングを行なう。

Claim (excerpt)：

1或いは複数の非磁性絶縁層が介在した積層構造の磁気ヘッドにおいて、前記非磁性絶縁層の内、少なくとも1層は、Krを含有する二酸化シリコン膜から形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。

IPC (4)：

G11B 5/127 ,  G11B 5/147 ,  G11B 5/31 ,  G11B 5/39