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J-GLOBAL ID：200903021549757157

光導波路の製造方法

Inventor： 花田 忠彦
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994322652
Publication number (International publication number)：1996179144
Application date： Dec. 26, 1994
Publication date： Jul. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】コアの形状を変化させず、また850度より高い温度となる工程を用いずにコアの近接した領域を埋め込むことができ、さらに導波路特性の偏光依存性の小さい光導波路の製造を可能とする。【構成】基板1にコア3bの材料よりもリフロー温度の高い第1上層クラッド層4を第2上層クラッド層5との間に形成することにより、コア3b及び第2上層クラッド層5に含まれている不純物の拡散を抑制させつつリフロー温度の低い第2上層クラッド層をリフローさせて断面形状を順テーパ状にすることができる。この製造方法を用いる事により、導波路のコアが近接した領域における上層クラッド層の埋め込みが良好であり、複屈折性が小さいデバイスを低温のプロセスを用いて製造できる。

Claim (excerpt)：

基板上に形成されたストライプ状のコアがクラッドにより埋め込まれた光導波路の製造方法において、基板上に第1下層クラッド層及び前記第1下層クラッド層よりもリフロー温度の低い材料によりなるコア層を形成し、該コア層をエッチングしてストライプ状のコアを形成した後、前記コアをなす材料のリフロー温度よりもリフロー温度の高い材料で前記コアを被う層である第1上層クラッド層を形成し、次に前記第1上層クラッド層の上に前記第1上層クラッド層の材料よりもリフロー温度の低い第2上層クロッド層を形成し、さらに前記基板を前記第2クラッド層のリフロー温度よりも高い温度に保った後に前記第2上層クラッド層の上に第3上層クラッド層を形成することを特徴とする光導波路の製造方法。