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J-GLOBAL ID:200903021550410985

放電容器及びその放電容器を備えたプラズマラジカル生成装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴江 武彦 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999207851
Publication number (International publication number):2001035692
Application date: Jul. 22, 1999
Publication date: Feb. 09, 2001
Summary:
【要約】【課題】 ラジカルを放電プラズマの状態から高効率に得るプラズマラジカル生成装置を提供すること。【解決手段】 高周波放電によってラジカルを生成する放電容器31を備えたプラズマラジカル生成装置において、前記放電容器31が、原料ガスの入り口付近に位置し前記原料ガスに高周波の電力が供給されるカソード部6と、前記カソード部の次段に位置し前記カソード部よりも小さい断面積を有するジェット部5と、前記ジェット部の次段に位置し前記ジェット部よりも大きい断面積を有するアノード部7とを備えた。
Claim (excerpt):
高周波放電によってラジカルを生成する放電容器を備えたプラズマラジカル生成装置において、前記放電容器が、原料ガスの入り口付近に位置し前記原料ガスに高周波の電力が供給されるカソード部と、前記カソード部の次段に位置し前記カソード部よりも小さい断面積を有するジェット部と、前記ジェット部の次段に位置し前記ジェット部よりも大きい断面積を有するアノード部とを備えたことを特徴とするプラズマラジカル生成装置。
IPC (2):
H05H 1/24 ,  H05H 1/46
FI (2):
H05H 1/24 ,  H05H 1/46 A

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