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J-GLOBAL ID：200903021555194490

セルロースアセテートフイルム

Inventor：
足立 敦

About 足立 敦


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 柳川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000138266
Publication number (International publication number)：2001002807
Application date： Jul. 30, 1996
Publication date： Jan. 09, 2001
Summary：
【要約】【課題】 従来の方法では製造することができなかった、優れた光学的性質および物性を有するセルロースアセテートフイルムを得る。【解決手段】 ポリマーおよび1.0μm以下の平均粒子径を有する微粒子を含む塗布層が設けられた、平均酢化度が58.0乃至62.5%のセルロースアセテートフイルムにおいて、80μmの厚さに換算したヘイズが2.0%以下であり、かつ塗布層が設けられた面の動摩擦係数が0.40以下となるように調節する。
Claim (excerpt)：
ポリマーおよび1.0μm以下の平均粒子径を有する微粒子を含む塗布層が設けられた、平均酢化度が58.0乃至62.5%のセルロースアセテートフイルムであって、80μmの厚さに換算したヘイズが2.0%以下であり、かつ塗布層が設けられた面の動摩擦係数が0.40以下であるセルロースアセテートフイルム。
IPC (9)：
C08J 7/04 CEP ,  B32B 23/08 ,  C08J 5/18 CEP ,  C08K 3/22 ,  C08K 3/36 ,  C08L 1/12 ,  G02B 5/20 101 ,  G02B 5/30 ,  G03C 1/795
FI (9)：
C08J 7/04 CEP B ,  B32B 23/08 ,  C08J 5/18 CEP ,  C08K 3/22 ,  C08K 3/36 ,  C08L 1/12 ,  G02B 5/20 101 ,  G02B 5/30 ,  G03C 1/795
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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