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J-GLOBAL ID:200903021612160930

ガスハイドレートの生成方法および生成装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 藤田 考晴 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001225987
Publication number (International publication number):2003041272
Application date: Jul. 26, 2001
Publication date: Feb. 13, 2003
Summary:
【要約】【課題】 生成されたガスハイドレートを、生成工程を中断することなく払い出し可能として生産性の向上を図る。【解決手段】 反応容器1内部で原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレートの生成方法において、反応容器1にガスハイドレートの取出口である開口5aを設けておき、反応容器1内部に形成される水相Lの液面を開口5aより低位に設定して生成を行い、該生成を継続させながら、水相Lの液面にガスハイドレートが溜まったら液面を上昇させ、水相Lに浮かぶガスハイドレートを開口5aを通じて払い出す。
Claim (excerpt):
反応容器の内部で原料ガスと水とを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレートの生成方法において、前記反応容器に前記ガスハイドレートの取出口を設けておき、前記反応容器内部に形成される水相の液面を前記取出口より低位に設定して生成を行い、前記水相の液面に前記ガスハイドレートが溜まったら、前記生成を継続させながら前記液面を上昇させ、前記水相に浮かぶガスハイドレートを前記取出口を通じて払い出すことを特徴とするガスハイドレートの生成方法。
IPC (7):
C10L 3/06 ,  C07B 61/00 ,  C07B 63/02 ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04 ,  F17C 11/00
FI (7):
C07B 61/00 C ,  C07B 63/02 B ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04 ,  F17C 11/00 B ,  C10L 3/00 A
F-Term (9):
3E072EA10 ,  4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC90 ,  4H006AD16 ,  4H006BD21 ,  4H006BD33 ,  4H006BD52 ,  4H006BE60

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