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J-GLOBAL ID：200903021620753125

マスクの検査方法およびその検査装置

Inventor： 星 圭一
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996216285
Publication number (International publication number)：1998062964
Application date： Aug. 16, 1996
Publication date： Mar. 06, 1998
Summary：

【要約】【課題】単面付けマスクの欠陥検査の検査時間を短縮する。【解決手段】基準マスク1b上に基準パターン22を作成し、これと同じパターンデータを使用した作成マスク1aの共通パターン部21は、基準マスク1bと作成マスク1aとのマスク上のパターンどうしの比較検査を行う。

Claim (excerpt)：

半導体装置を製造する際に用いるマスクの検査方法において、基準パターン部を有する基準マスクを作成し、作成マスクの共通パターン部は基準マスクの基準パターン部と同一のパターンデータで作成し、基準パターン部および共通パターン部から個別パターン部と重なる領域を除外した領域の位置データを出力し、作成マスク上のパターン形成は基準マスクと同一のパターン形成工程で行い、作成マスクのこの領域の欠陥検査は基準マスクとのパターンどうしの比較検査で行い、これ以外の領域の欠陥検査は作成マスク上のパターンをマスク設計データとの間の比較検査で行うことを特徴とするマスクの検査方法。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (3)：

G03F 1/08 S ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 502 V