Pat
J-GLOBAL ID：200903021638669393

表面処理剤

Inventor：
下津 弘義

About 下津 弘義


Applicant, Patent owner：
東芝シリコーン株式会社

About 東芝シリコーン株式会社


Agent (1)： 古谷 馨 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995088966
Publication number (International publication number)：1996283693
Application date： Apr. 14, 1995
Publication date： Oct. 29, 1996
Summary：
【要約】【目的】 水分散状態において優れた安定性を有するとともに、基材表面の処理剤として、非粘着性、撥水性、滑り性に優れた皮膜を形成し、基材に対して優れた密着性を示す水系表面処理剤を提供する。【構成】 (1) 少なくとも1個の炭素原子を介してケイ素原子に結合した置換または非置換のアミノ基とケイ素原子に結合したアルコキシ基を有するシランおよび/またはシロキサン、(2) 少なくとも1個の炭素原子を介してケイ素原子に結合したエポキシ基とケイ素原子に結合したアルコキシ基を有するシランおよび/またはシロキサン、(3) カルボン酸及び(4) 水を含有する表面処理剤。
Claim (excerpt)：
(1) 少なくとも1個の炭素原子を介してケイ素原子に結合した置換または非置換のアミノ基とケイ素原子に結合したアルコキシ基を有するシランおよび/またはシロキサン(2) 少なくとも1個の炭素原子を介してケイ素原子に結合したエポキシ基とケイ素原子に結合したアルコキシ基を有するシランおよび/またはシロキサン(3) カルボン酸(4) 水を含有してなることを特徴とする表面処理剤。
IPC (4)：
C09J183/04 JGF ,  C08J 7/04 ,  C09J 5/02 JGP ,  B05D 5/08
FI (4)：
C09J183/04 JGF ,  C08J 7/04 Z ,  C09J 5/02 JGP ,  B05D 5/08 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
Show all
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM