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J-GLOBAL ID:200903021668527364

パターン形成された薄膜及びその膜の熱支援磁気記録媒体での温度制御層としての使用

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  白江 克則 ,  吉田 裕
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005378275
Publication number (International publication number):2006196151
Application date: Dec. 28, 2005
Publication date: Jul. 27, 2006
Summary:
【課題】熱伝達を効率的に制御することのできる記録膜の提供。【解決手段】パターン形成された薄膜は、比較的高熱伝導率材料の領域によって分離された比較的低熱伝導率材料の領域を含む。低熱伝導率領域は、高熱伝導率材料の連続的なマトリックス中に構成された円筒又は直方体の形態で設けることができる。熱支援磁気記録媒体などのデータ記録媒体中で温度制御層として、この薄膜を使用することができる。【選択図】図3
Claim (excerpt):
少なくとも部分的に薄膜の膜厚を貫通して延在する低熱伝導率材料の領域と、前記低熱伝導率材料の領域を分離する高熱伝導率材料の領域とを含む薄膜において、これらの領域が、前記低熱伝導率の領域よりも前記高熱伝導率の領域で、前記薄膜の膜厚を貫通する熱伝導がより大きくなるように構成および配置されている薄膜。
IPC (4):
G11B 5/738 ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/64 ,  G11B 5/84
FI (4):
G11B5/738 ,  G11B5/65 ,  G11B5/64 ,  G11B5/84 Z
F-Term (12):
5D006BB02 ,  5D006BB06 ,  5D006BB07 ,  5D006CA01 ,  5D006CA05 ,  5D112AA03 ,  5D112AA05 ,  5D112BB02 ,  5D112BB05 ,  5D112BD03 ,  5D112BD08 ,  5D112GA20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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