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J-GLOBAL ID：200903021680767133

tert-ブトキシカルボニル基で部分エステル化されたm-ヒドロキシスチレン-スチレン又はαメチルスチレンブロック共重合体及びその製造方法

Inventor： 渡辺 修 ,  山田 素行
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992225174
Publication number (International publication number)：1994049134
Application date： Jul. 31, 1992
Publication date： Feb. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 アルカリで容易に現像することができると共に、単分散性で高現像性及び高解像度を有し、機能性高分子としてレジスト材料等の用途に好適なポリマーを提供する。【構成】 重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)が1.01〜1.5の単分散性のm-ヒドロキシスチレンとスチレン又はαメチルスチレンとのブロック共重合体中のポリ(m-ヒドロキシスチレン)部の水酸基を部分的にtert-ブトキシカルボニル化して、下記構造式(1),(2)及び(3)で示される繰り返し単位を有し、かつ分子量分布が重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)=1.01〜1.5であるポリヒドロキシスチレン部の水酸基がtert-ブトキシカルボニル基で部分エステル化されたm-ヒドロキシスチレン-スチレン又はαメチルスチレンブロック共重合体を得る。【化1】(但し、式中Rは水素原子又はメチル基である。)

Claim (excerpt)：

下記構造式(1),(2)及び(3)で示される繰り返し単位を有し、かつ分子量分布が重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)=1.01〜1.5であることを特徴とするポリ(m-ヒドロキシスチレン)部の水酸基がtert-ブトキシカルボニル基で部分エステル化されたm-ヒドロキシスチレン-スチレン又はαメチルスチレンブロック共重合体。【化1】(但し、式中Rは水素原子又はメチル基である。)

IPC (3)：

C08F212/08 MJU ,  C08F 8/14 MGN ,  C08F212/14 MJY