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J-GLOBAL ID：200903021680801870

ポジ型レジスト組成物

Inventor：
青合 利明

About 青合 利明

, 
安波 昭一郎

About 安波 昭一郎


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000363338
Publication number (International publication number)：2002169287
Application date： Nov. 29, 2000
Publication date： Jun. 14, 2002
Summary：
【要約】【課題】160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ塗布性、現像欠陥を満足するポジ型レジスト組成物、更に良好な感度、解像度でパターンを形成し、酸素プラズマ耐性も優れるポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つシリコン基を有する繰り返し構造単位を含む、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つシリコン基を有する繰り返し構造単位を含む、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。
IPC (4)：
G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (35)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB06 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB34 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002AA031 ,  4J002BD121 ,  4J002BG071 ,  4J002BH021 ,  4J002BQ001 ,  4J002ER028 ,  4J002EU048 ,  4J002EU118 ,  4J002EU138 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002FD208 ,  4J002FD317 ,  4J002GP03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (13)
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