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J-GLOBAL ID：200903021692571838

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 上谷 保則 ,  桑名 耕治 ,  中西 弘俊 ,  塙 良太郎
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991219804
Publication number (International publication number)：1993034917
Application date： Aug. 30, 1991
Publication date： Feb. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】 感度及び焦点深度に優れたレジスト組成物を提供する。【構成】 ノボラック樹脂、4価以上のフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルおよび3価以下のフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有するポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

ノボラック樹脂、4価以上のフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルおよび3価以下のフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有するポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027