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J-GLOBAL ID：200903021702896943

レシオイメージング装置

Inventor： 神谷 清 ,  内山 茂 ,  大石 英資 ,  杉山 範和 ,  水口 義則 ,  平野 雅彦
Applicant, Patent owner： 浜松ホトニクス株式会社
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991335088
Publication number (International publication number)：1993164687
Application date： Dec. 18, 1991
Publication date： Jun. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】 簡素な構成にして優れた測定精度を得ることができるレシオイメージング装置を提供することを目的とする。【構成】 、被測定試料からの光学像を少なくとも2つの波長範囲ごとの複数の光学像に分離して、夫々の波長範囲ごとの光学像を投影する光学系と、上記光学系によって投影された夫々の光学像を同一画角内の1フレーム画として同時に撮像する撮像手段と、上記撮像手段から出力される画像信号をディジタル化して、各波長範囲ごとの光学像の輝度レベルの比を演算し、該比に基いて上記被測定試料に含有される物質の量の分布を測定する画像処理手段とを備える構成とした。

Claim (excerpt)：

被測定試料からの光学像を少なくとも2つの波長範囲ごとに複数の光学像に分離して、夫々の波長範囲ごとの光学像を投影する光学系と、上記光学系によって投影された夫々の光学像を同一画角内の画像として同時に撮像する撮像手段と、上記撮像手段から出力される画像信号をディジタル画像データにディジタル化し、このディジタル画像データに基いて各波長範囲ごとの光学像の輝度レベルの比を演算し、該比に基いて上記被測定試料に含有される物質の量の分布を測定する画像処理手段と、を具備するレシオイメージング装置。

IPC (2)：

G01N 21/17 ,  G02B 21/18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特公昭55-040809
  
• 特開昭61-292027