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J-GLOBAL ID：200903021706387300
残留塩素濃度測定装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
室田 力雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998257580
Publication number (International publication number)：2000074877
Application date： Aug. 26, 1998
Publication date： Mar. 14, 2000
Summary：
【要約】【課題】 残留塩素濃度の測定において、結合残留塩素の濃度の影響を減じ、遊離残留塩素の濃度をより密接に反映した状態での残留塩素濃度を測定することができ、これによってその水が保有する殺菌効果の程度をより正確に反映した状態での残留塩素の濃度を測定することができる残留塩素濃度測定装置の提供を課題とする。【解決手段】 少なくとも一対の正負電極32、33を有し、正負電極間に電圧を印加することで検水を電気分解した際に流れる電流値を検出し、この電流値から検水に含まれる残留塩素の濃度を測定する装置であって、前記一対の正負電極間32、33に加える印加電圧を883mV以上903mV以下の範囲にある一定電圧に構成している。
Claim (excerpt)：
少なくとも一対の正負電極を有し、正負電極間に電圧を印加することで検水を電気分解した際に流れる電流値を検出し、この電流値から検水に含まれる残留塩素の濃度を測定する装置であって、前記一対の正負電極間に加える印加電圧を883mV以上903mV以下の範囲にある一定電圧に構成していることを特徴とする残留塩素濃度測定装置。
IPC (2)：
FI (2)：
G01N 27/46 316 Z
, G01N 33/18 C
