Pat
J-GLOBAL ID:200903021809871269

磁気センサー

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001088231
Publication number (International publication number):2002289943
Application date: Mar. 26, 2001
Publication date: Oct. 04, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】MR比の大きい磁気抵抗効果型磁気センサーを提供する。【解決手段】MOSFET2は半導体基板11に形成されたソース領域12、ドレイン領域13、ゲート絶縁膜16を介して形成されたゲート電極としての下地電極20により構成されている。TMR素子1は下地電極20上にゲート引き出し電極18と隣接しかつ離隔して形成され、その上面には定電流を流し込むバイアス電極17が形成されている。上記構成において、TMR素子1に定電流を流し、MOSFET2のゲートデバイスを変化させ、TMR素子1のMR比を増幅した出力をMOSFET2のソース・ドレイン電流として得る。
Claim (excerpt):
半導体基板と、前記半導体基板表面に形成された一対のソース・ドレイン領域と、前記一対のソース・ドレイン領域で挟まれた半導体基板上に形成されたゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極と、前記ゲート電極上に電気的に接続され、第1の反強磁性層と、第1の強磁性層と、第1のトンネルバリア層と、第2の強磁性層と、第2のトンネルバリア層と、第3の強磁性層と、第2の反強磁性層とがこの順に積層された強磁性トンネル接合素子と、を具備することを特徴とする磁気センサー。
IPC (4):
H01L 43/08 ,  G01R 33/09 ,  G11B 5/39 ,  H01F 10/32
FI (4):
H01L 43/08 Z ,  G11B 5/39 ,  H01F 10/32 ,  G01R 33/06 R
F-Term (16):
2G017AA10 ,  2G017AD55 ,  5D034BA03 ,  5D034BA05 ,  5D034BA08 ,  5D034BA12 ,  5D034BA15 ,  5D034BA16 ,  5D034BB14 ,  5D034CA04 ,  5D034CA08 ,  5E049BA12 ,  5E049BA16 ,  5E049CB02 ,  5E049DB10 ,  5E049DB12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page