Pat

J-GLOBAL ID：200903021841763338

AC型プラズマディスプレイパネルの製造方法

Inventor： 天津 正史 ,  堀尾 研二 ,  小川 哲也 ,  倉井 輝夫
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993043134
Publication number (International publication number)：1994260083
Application date： Mar. 04, 1993
Publication date： Sep. 16, 1994
Summary：

【要約】【目的】 AC型プラズマディスプレイパネルに関し、特に放電点を区切る隔壁の製造が容易であるとともに、長期間にわたって動作が安定なAC型プラズマディスプレイパネルの製造方法の提供を目的とする。【構成】 一体化された表示電極と電極端子とを絶縁層で覆い、この表示電極を覆う絶縁層上に放電点を区切る隔壁を設けたプラズマディスプレイパネルの片側の基板の製造方法であって、表示電極12b と電極端子12c とを被覆する絶縁層として、表示電極12b に対しては耐酸性の絶縁層21a 、電極端子12c に対しては非耐酸性の絶縁層21b をそれぞれ形成する工程と、表示電極を覆う絶縁層21a の表面に隔壁用材料である緻密かつ非耐酸性の絶縁層21c を形成した後、この絶縁層21c を隔壁21d として不要の領域を酸系のエッチング液により除去する工程とを含んで構成する。

Claim (excerpt)：

一体化された表示電極と電極端子とを絶縁層で覆い、該絶縁層上に放電点を区切る隔壁を設けたAC型プラズマディスプレイパネルの片側の基板の製造方法であって、前記表示電極(12b) と電極端子(12c) とを被覆する絶縁層として、表示電極(12b) に対しては耐酸性の絶縁層(21a) 、電極端子(12c) に対しては非耐酸性の絶縁層(21b) をそれぞれ形成する工程と、前記表示電極(12b) 上の耐酸性の絶縁層(21a) の表面に隔壁用材料である緻密かつ非耐酸性の絶縁層(21c) を形成した後、該絶縁層(21c) を前記隔壁(21d) として不要の領域を酸系のエッチング液により除去する工程とを含んでなることを特徴とするAC型プラズマディスプレイパネルの製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭58-188030
  
• 特開平4-368787
  
• 特開昭49-017685