画像のスペクトル解析の方法および装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：浅村皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993226359
Publication number (International publication number)：1995301562
Application date： Jul. 28, 1993
Publication date： Nov. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】被写界の光学画像を解析してそのそれぞれの画素のスペクトル強度を決定する方法および装置を開示する。【構成】この装置は、被写界からの入射光を集め(20)、入射光を走査し(22)、その走査された光をして干渉計(24)を通過せしめ、干渉計(24)をしてそれぞれの画素から発射された光のスペクトル強度の1次結合の所定の組に対応する変調された光を出力せしめ、干渉計(24)から出力された光を検出器アレイ(26)上に集束し、検出器アレイ(26)の出力を処理して(28)、そのそれぞれの画素のスペクトル強度を決定する。干渉計が移動形のものなら、1次元的検出器アレイの場合は1つの次元における走査が要求され、2次元的検出器アレイの場合は走査はいらない。干渉計が非移動形のものなら、2次元的検出器アレイの場合は1つの次元における走査が、1次元的検出器アレイの場合は2つの次元における走査が要求される。

Claim (excerpt)：

被写界の光学画像を解析してそのそれぞれの画素のスペクトル強度を決定する方法であって、(a)該被写界からの入射光を集めるステップと、(b)該光をして干渉計を通過せしめ、該干渉計をしてそれぞれの画素から発射された光のスペクトル強度の1次結合の所定の組に対応する変調された光を出力せしめるステップと、(c)該干渉計から出力された該光を検出器アレイ上に集束するステップと、(d)該検出器アレイの出力を処理してそのそれぞれの画素のスペクトル強度を決定するステップと、を含む、被写界の光学画像を解析してそのそれぞれの画素のスペクトル強度を決定する方法。

IPC (2)：

G01J 3/45 , G01J 3/28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

干渉計
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-357890 Applicant：日本電気株式会社
特開昭46-041887
特開昭54-092293

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