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J-GLOBAL ID:200903021859551648
蛍光X線分析装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
岡田 和秀
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996319275
Publication number (International publication number):1998160691
Application date: Nov. 29, 1996
Publication date: Jun. 19, 1998
Summary:
【要約】【課題】 下面照射型の蛍光X線分析装置において、大小各種の試料のセットが可能で、排気に余分な時間をかけず、効率的に分析が行えるようにする。【解決手段】 第1発明では、ベース板6上で試料を覆うカバーケースとして、大型試料用の外側カバーケース7と、その内側に着脱自在に取り付けられる小型試料用の内側カバーケース8とを用意し、ベース板6には、内外各カバーケース7,8の内部にそれぞれ通じる2種の排気通路11,12を形成した。第2発明では、前記のような外側カバーケース7に排気管24を接続し、内側カバーケース8には排気通路を形成して、内外両カバーケース7,8の装着に伴い、排気通路が排気管24に連通するようにした。
Claim (excerpt):
分析チャンバ上面にあるベース板上にカバーケースとともに載置セットされた試料に対し、その下面側から励起X線を照射するようにした蛍光X線分析装置において、大型の試料に対応するカバーケースを備え、このカバーケースの内側には小型の試料に対応する内側カバーケースが着脱自在に取り付けられ、ベース板には、内側カバーケースの内側位置に開口する内側カバーケース用の排気通路と、内外両カバーケース間の位置に開口する外側カバーケース用の排気通路とが形成されていることを特徴とする蛍光X線分析装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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蛍光X線分析装置および分析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-294245
Applicant:株式会社堀場製作所
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