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J-GLOBAL ID：200903021859764358

欠陥検査装置

Inventor： 野村 武彦
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991249917
Publication number (International publication number)：1993087544
Application date： Sep. 27, 1991
Publication date： Apr. 06, 1993
Summary：

【要約】【目的】本発明は、マスクパターンの欠陥検査とともにマスクに生じるたわみの影響を受けずにマスクパターンに対する測長を高精度にしようとするものである。【構成】変動測定手段(20-1)はテーブル又は撮像装置を相対的に移動させて撮像装置のオートフォーカス機能により被検査体の高さ方向の変動を測定し、この変動データから移動誤差除去手段(20-2)は予め測定されたテーブル又は撮像装置の相対的な移動時の上下方向の誤差を除去し、この手段により得られるデータに対してたわみ抽出手段(20-3)はフーリエ解析を実行して低次スペクトル成分を被検査体のたわみ量として抽出し、このたわみ量により補正手段(20-4)は測長データを補正する。

Claim (excerpt)：

テーブルに載置された平板状の被検査体をオートフォーカス機能を有する撮像装置により撮像し、この画像データから前記被検査体に対する測長機能を有する前記被検査体の欠陥検査装置において、前記テーブル又は前記撮像装置を相対的に移動させて前記撮像装置のオートフォーカス機能により前記被検査体の高さ方向の変動を測定する変動測定手段と、この変動測定手段により測定された変動データから予め測定された前記テーブル又は前記撮像装置の相対的な移動時の上下方向の誤差を除去する移動誤差除去手段と、この移動誤差除去手段により得られるデータに対してフーリエ解析を実行して低次スペクトル成分を前記被検査体のたわみ量として抽出するたわみ抽出手段と、このたわみ抽出手段により求められたたわみ量により前記測長機能のデータを補正する補正手段とを具備したことを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (4)：

G01B 11/24 ,  G01N 21/88 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027