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J-GLOBAL ID：200903021909902579

クロム微粒子の生成方法、フォトマスクの製造方法及びフォトマスクの修正方法

Inventor： 高橋 眞澄 ,  宮原 温 ,  佐藤 博保
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社 ,  富士通ヴィエルエスアイ株式会社
Agent (1)： 北野 好人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998132350
Publication number (International publication number)：1999323410
Application date： May. 14, 1998
Publication date： Nov. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 真空系装置を用いることなく容易にフォトマスクの遮光膜を形成することができるクロム微粒子の生成方法を提供する。【解決手段】 2価のクロムイオンを含む溶液にレーザ光を照射し、還元により1価のクロムイオンを生成するレーザ光照射工程と、前記1価のクロムイオンを集合させて、クロム微粒子を生成する熟成工程とを有している。

Claim (excerpt)：

2価のクロムイオンを含む溶液にレーザ光を照射し、還元により1価のクロムイオンを生成するレーザ光照射工程と、前記1価のクロムイオンを集合させて、クロム微粒子を生成する熟成工程とを有することを特徴とするクロム微粒子の生成方法。

IPC (4)：

B22F 9/02 ,  B01J 19/12 ,  B22F 9/24 ,  G03F 1/08

FI (5)：

B22F 9/02 Z ,  B01J 19/12 H ,  B01J 19/12 B ,  B22F 9/24 C ,  G03F 1/08 L