エネルギービーム装置における光学系の調整方法

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999083934
Publication number (International publication number)：2000277424
Application date： Mar. 26, 1999
Publication date： Oct. 06, 2000
Summary：

【要約】【課題】電子ビーム描画装置の光学系を調整し、試料上のビーム位置の調整を短時間に且つ正確に行う。【解決手段】電子ビームを試料面上のマーク上で走査して得られるマーク信号を用いて、電子ビーム描画装置の光学系を調整する方法において、マークは2次元の周期構造を有しており、光学系の光軸中心にマークをセットした状態でマーク上にビーム走査して第1のマーク信号31を検出し、マークを光軸中心からずらした状態でマーク上にビーム走査して第2のマーク信号32を検出し、第1及び第2のマーク信号31,32の位相差から偏向位置のずれを求めること。

Claim (excerpt)：

試料面上のマーク上でエネルギービームを1次元又は2次元的に走査して得られるマーク信号を用いて、エネルギービーム装置の光学系を調整する方法において、前記マークは1次元又は2次元の周期構造を有しており、マークとビーム走査領域との位置関係の変動を、マーク信号の位相の変化から求めることを特徴とするエネルギービーム装置における光学系の調整方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , H01J 37/04

FI (4)：

H01L 21/30 541 D , G03F 7/20 504 , H01J 37/04 B , H01L 21/30 541 K

F-Term (18)：

2H097AA03 , 2H097CA16 , 2H097KA13 , 2H097KA15 , 2H097KA20 , 2H097KA29 , 2H097LA10 , 5C030AA07 , 5C030AA10 , 5C030AB03 , 5F056BA08 , 5F056BC10 , 5F056BD01 , 5F056BD06 , 5F056CA02 , 5F056CB14 , 5F056EA06 , 5F056FA06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

位置検出装置及びそれを備えた電子ビーム露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-150989 Applicant：キヤノン株式会社
特開昭56-124234
特開昭64-082440

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