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J-GLOBAL ID：200903021954075101
位置検出装置及び位置検出方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
宮川 貞二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997296355
Publication number (International publication number)：1999121357
Application date： Oct. 14, 1997
Publication date： Apr. 30, 1999
Summary：
【要約】【課題】 低段差マークの観察を確実に行える、簡易な光学機構の位置検出装置及び簡易な工程の位置検出方法を提供する。【解決手段】 所定の第1の開口数または該第1の開口数よりも大きな第2の開口数のもとで、被検物体W上に形成されたマークWMを選択的に照明するように構成された照明光学系2〜9と、マークWHからの光束を集光して所定位置に結像する結像光学系9から10と、第1の開口数のもとでマークWHが照明されたときに前記結像位置をディフォーカスさせるディフォーカス手段11bと、第2の開口数のもとでマークWHが照明されたときに前記結像光学系により結像される光束の光量を低減させる光量低減手段11aとを備える位置検出装置。結像される像は第1の開口数のときにはディフォーカスされ、マークWMが低段差でも明瞭な像となり、第2の開口数のときには光量が低減されるので、大きい第2の開口数のもとでも像の明るさのバランスがとれる。
Claim (excerpt)：
所定の第1の開口数または該第1の開口数よりも大きな第2の開口数のもとで、被検物体上に形成されたマークを選択的に照明するように構成された照明光学系と;前記マークからの光束を集光して所定位置に結像する結像光学系と;前記第1の開口数のもとで前記マークが照明されたときに前記結像位置をディフォーカスさせるディフォーカス手段と;前記第2の開口数のもとで前記マークが照明されたときに前記結像光学系により結像される光束の光量を低減させる光量低減手段とを備えることを特徴とする位置検出装置。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 525 F
, G01B 11/00 B
